EMI屏蔽的常見問題是什麼?

電磁干擾 (EMI) 是指電子設備產生的輻射或傳導電磁場。 EMI由三個部分組成: 源、接收器和路徑。 源是產生干擾的外部現象或電路; 接收器是受干擾影響的設備或信號。 干擾通過以下四種耦合模式之一沿路徑傳播: 傳導,輻射,電容和磁性EMI。

EMI是電和磁之間密切關係的結果。 電流產生小磁場,磁場也會影響電流。 導體可以充當無線電天線。 當大功率無線電設備和電源工作時,它們會產生干擾。 隨著設備變得越來越複雜、緊湊和密集,它們變得更容易受到EMI的影響。 這種干擾可能是由自然現象引起的,例如極光,閃電,太陽耀斑或宇宙微波,以及涉及蜂窩網絡,輸電線,AM/FM無線電波和控制設備的電路。

• 導電EMI。 顧名思義,它是由於源和接收器之間的導電路徑而產生的。 在該導電路徑中存在雜散電流,這可能導致干擾。 傳導EMI進一步分為兩種類型: 差模和共模。 在差模中,雜散電流以相反的方向流過電源線,不受接地的影響; 而在共模中,雜散電流在兩個系統之間以相同的方向流動。
• 電容式EMI。 ,這種類型的EMI發生在保持近距離 (有時僅相隔一個波長) 的兩個導體之間。 該小距離產生寄生電容,該寄生電容成為用於傳輸雜散電流的通道。
• 磁性EMI。 磁性EMI的操作類似於電容性EMI,唯一的區別是它通過電磁感應在另一個導體中產生電流。
• 輻射EMI。 這是指在接收器和源之間形成的電磁場。 這種電磁干擾通過導體 (例如電路板跡線和電纜) 傳輸到電路,這種現象稱為輻射EMI。

EMI和RFI由電子設備產生。 RFI是EMI的子集。 通常,這兩個術語可以互換使用。 RFI是一種由外部源產生的長波長干擾。 EMI是由設備的高頻輻射引起的一種短程干擾。 遠程和短程干擾都會損壞電子元件。

EMI/RFI屏蔽是指旨在抑制EMI/RFI對電子設備的影響的常用技術。 設計人員和工程師可以通過有效的EMI/RFI屏蔽,在強電磁信號到達關鍵電子設備之前有效地衰減它們。 這種屏蔽通常由導電材料製成,以提供有效的電磁干擾保護。

EMI/RFI屏蔽的有效性可以通過以下任何一種方法進行測量:

• 開放現場測試。 該測試在附近沒有金屬設備的開放區域進行。 與設備相距不同距離的天線用於測量傳導發射和輻射場強度。
• 屏蔽外殼試驗。 此EMI/RFI屏蔽測試適用於500 MHz以下的測試頻率。 將屏蔽裝置放置在帶有開口的盒子內,並記錄來自外部和內部的電磁信號。 測量內部和外部信號的信號比,以檢查建立的屏蔽的有效性。
• 同軸傳輸線測試。 該技術有助於測量平面材料中的屏蔽效果。 在這種類型的測試中,測試設備保持在平面材料附近,並測量各種頻率下的電壓。 在下一階段中,移除測試裝置並用加載裝置替換。 電壓讀數類似於測試裝置的電壓讀數。 通過比較負載設備和參考設備的讀數來測量屏蔽的有效性。

以下是用於製造EMI屏蔽的幾種常見材料: 鋁, 銅 和銅合金/鎳銀。

以下是用於製造RFI屏蔽的幾種常見材料: 銅, 鋁,不銹鋼 和鎳銀。